集成的光子学促进了可扩展,节能的高性能设备的开发,并通过将各种被动和主动的光学组件集成到单个平台上,具有小脚印。这可以改善用于数据通信,传感,成像和量子信息处理的光学系统的性能和稳定性。由这些应用驱动,绝缘子(LNOI)上的薄膜锂(TFLN) / Niobate上的硅锂由于其高的非线性和电磁性能而成为强大的材料平台[1]。薄膜锂锂波导的高模态限制允许具有小弯曲半径的紧凑装置[2]。LNOI是有效的非线性设备[2-6]和快速电磁调节器[7 - 12]的合适候选者。低损坏波导通道可以预期与未来的高性能光子设备高度相关。,非结构化的薄膜材料具有内在的损失(0.2 dB / m [13]),它们远高于大量氯硝基锂的水平,这可能是由于制造过程中造成的离子植入损伤的结果[13]。由这些薄膜板制成的结构化通道表现出更高的衰减,主要是由粗糙的侧壁引起的。为了减轻这种效果,可以用诸如SIO 2之类的材料来覆盖该设备,以减少折射率对比度,可以通过调整制造过程来降低粗糙度,或者可以通过接受多模型的多模式spaveguide Geometries来减少光学模式的重叠[14]。使用这些方法在2023年已证明了1550 nm左右的最低传播损失1 dB / m [15]。低损失被认为是量子光学[16],单个光子处理[17]或光学量子计算[18]的情况下特别是必不可少的。理解这些系统的局限性至关重要,因此,对建模的技术也很重要,在这些领域中很重要。在影响综合光子电路功能的各种损失来源之间
在六型21700锂离子细胞组成的小模块上进行了六个热失去传播测试,在六边形构型中,相邻细胞之间的间距为3 mm。使用直径为8 mm的指甲穿过细胞的正末端,将一个模块中心的一个单元触发到热失控中。在一半的测试中,使用35 mm的穿透深度在触发细胞中启动侧壁破裂。对于另一半测试,在触发细胞中未使用10 mM穿透深度在触发细胞中启动侧壁破裂。在触发细胞经历侧壁破裂的所有测试中,模块中其余六个细胞都有热失去的传播。在所有触发细胞没有侧壁破裂的测试中,模块中的任何其他细胞都没有热失去繁殖。这些结果是通过相对于名义衰竭的侧壁破裂失败的方向性和热传递的幅度来解释的。这些结果强调了当电池模块中发生侧壁破裂故障并强调方法减轻电池系统故障的重要性时,热失去传播的倾向增加了。
韩国仁川自由经济区 — IFEZ — 艺术中心的新音乐厅的设计正在进行中。该音乐厅将成为亚洲爱乐乐团的所在地。它有 1,700 多个座位,包括 150 个合唱团。将采用葡萄园座位安排,但舞台区域周围的座位将最小化,以形成坚固的舞台围墙。每个座位区都设计有侧壁,以增加声学亲密度。侧壁之间的平均宽度设计为小于 15 米,每个座位都安排在距离最近侧壁 7.5 米以内。所有侧壁都设计为倾斜的,以引导第一次反射并改善观众区的空间印象。扩散器功能性地安装在舞台源的有效反射表面上。通过计算机模拟和比例建模研究设计考虑因素。
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Kenda橡胶Ind。 co。 它具有无管准备的GCT套管,可加强侧壁以保护。 化合物具有出色的抓地力,速度和耐用性。 其低滚动阻力允许在砾石小径上速度速度,并且在砾石比赛中获得了成功的成功,例如Alexey Vermeulen的2022年BWR胜利。 •置信 - 在所有地形中抓地力的新化合物•化合物 - 在湿条件下进行优化的抓地力•砾石套管技术 - 在侧壁上构建的侧壁构造,并在侧壁上构建,并密封无内管的界面Kenda橡胶Ind。co。它具有无管准备的GCT套管,可加强侧壁以保护。化合物具有出色的抓地力,速度和耐用性。其低滚动阻力允许在砾石小径上速度速度,并且在砾石比赛中获得了成功的成功,例如Alexey Vermeulen的2022年BWR胜利。•置信 - 在所有地形中抓地力的新化合物•化合物 - 在湿条件下进行优化的抓地力•砾石套管技术 - 在侧壁上构建的侧壁构造,并在侧壁上构建,并密封无内管的界面
红外 (IR) 探测技术的发展主要依赖于 InAs/GaSb SL 外延 [1] 和生长后处理 [2] 的改进。为了实现最佳性能,必须优化器件架构 [3] 以及台面结构,使其侧壁垂直且光滑,以防止像素间距较小的焦平面阵列 (FPA) 中的串扰,其中周长与表面积的纵横比很高 [2, 4]。表面台面的粗糙度、反应产物的存在以及电活性缺陷的表面密度(包括断裂的化学键)都会影响表面漏电流的大小 [5]。台面型结构可以通过湿法或干法蚀刻来创建。先前的研究表明,无机和有机酸性蚀刻剂都适用于 InAs/GaSb 超晶格 (SL) 的湿法蚀刻 [5, 6]。湿法蚀刻有许多优点,例如断裂的化学键数量少、自由载流子密度降低,因此漏电流低 [6, 7]。然而,也会产生不良反应产物并残留在侧壁表面上,导致漏电流的显著增加。湿法蚀刻也是各向异性的,导致台面侧壁几何形状不理想 [8]。另一方面,InAs 和 GaSb 材料的干法蚀刻经常使用气态氯与惰性气体(如氩气)的组合 [9, 10]。气态氯因其高挥发性和高蚀刻速率而受到青睐,而氩离子通过轰击蚀刻表面简化了反应产物的解吸。BCl 3 蚀刻具有较低的蚀刻速率,但使用它会产生更光滑的台面侧壁 [11]。BCl 3 /Ar 等离子体的使用已被证明在分立探测器中是有效的。尽管如此,当用于台面时,它表现出次优性能
subμm光刻发展至少可以追溯到1983年,并于1986年进行了审查,当时该领域仍处于大学研究状态[2]。目标是实现具有尖锐侧壁的二维模式,其尖锐的侧壁明显小于常规光学方法的可能性,这些光学方法被光的波长确定和限制。不仅考虑了光孔构成重要的方法,而且还考虑了光孔本身产生所需模式的能力。在上述出版物中回顾了几种用于生成光刻图像的方案 - 光影影像学,接触光刻,全息光刻,电子束光刻,X射线光刻和离子光刻。强度降解