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subμm光刻发展至少可以追溯到1983年，并于1986年进行了审查，当时该领域仍处于大学研究状态[2]。目标是实现具有尖锐侧壁的二维模式，其尖锐的侧壁明显小于常规光学方法的可能性，这些光学方法被光的波长确定和限制。不仅考虑了光孔构成重要的方法，而且还考虑了光孔本身产生所需模式的能力。在上述出版物中回顾了几种用于生成光刻图像的方案 - 光影影像学，接触光刻，全息光刻，电子束光刻，X射线光刻和离子光刻。强度降解
R58E_48_FEATURE ARTICE_FRAN ADAR invertau 用荧光-QM 的时间分辨电致发光 使用拉曼光谱法的化学机械抛光（CMP）浆料中常见成分的定量分析
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