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World File Search System化学蚀刻
利用金属辅助化学蚀刻进行 X 射线光学器件微加工：综述
摘要：高纵横比硅微纳米结构在微电子、微机电系统、传感器、热电材料、电池阳极、太阳能电池、光子装置和 X 射线光学等多种应用领域中具有技术相关性。微加工通常通过反应离子干法蚀刻和基于 KOH 的湿法蚀刻来实现，金属辅助化学蚀刻（MacEtch）作为一种新型蚀刻技术正在兴起，它允许在纳米级特征尺寸中实现巨大的纵横比。到目前为止，文献中缺少对 MacEtch 的专门综述，既考虑了基本原理，也考虑了 X 射线光学应用。本综述旨在提供全面的总结，包括：（i）基本机制；（ii）在垂直于 <100> Si 基底的方向上进行均匀蚀刻的基础和作用；（iii）用 MacEtch 制造的几个 X 射线光学元件示例，例如线光栅、圆形光栅阵列、菲涅尔区板和其他 X 射线透镜； (iv) 吸收光栅完整制造的材料和方法以及在基于 X 射线光栅的干涉测量中的应用；以及 (v) X 射线光学制造的未来前景。本综述为研究人员和工程师提供了对 MacEtch 作为 X 射线光学制造新技术的原理和应用的广泛和最新的理解。
通过 SLM 制造并经化学蚀刻处理的表面形貌和润湿性表征
摘要 选择性激光熔化工艺代表了生物医学领域制造定制植入物的一个有趣机会。然而，通过增材制造获得的部件的表面粗糙度是一个主要限制因素，并且会影响表面润湿性。在这项研究中，采用化学蚀刻来解决这一问题。为此，分析了化学蚀刻参数（如浸入时间和溶液成分）对表面粗糙度、重量损失和润湿性的影响。考虑了不同的样品（通过不同的打印方向获得）。测试表明，由于化学蚀刻，表面的粗糙度和润湿性得到改善。主要结果表明，对表面润湿影响最大的参数是两个：粗糙度和材料特性（随样品深度而变化）。
化学蚀刻 - 硅质辅助by-craphene-Oxide-
https://doi.org/10.26434/chemrxiv-2024-b3m60 orcid：https：//orcid.org/0009-0005-4780-8060 Chemrxiv不同行评论的内容。许可证：CC BY-NC 4.0
通过活性纳米粒子辅助化学蚀刻和伪形的热热
许多生物材料表现出多尺寸孔隙度，其小，主要是纳米级孔以及大的宏观毛细管，可同时实现优化的大量传输能力和具有较大内表面的轻量级结构。意识到人工材料中这种层次的孔隙度需要经常进行复杂且昂贵的上部处理，从而限制了可扩展性。在这里，我们提出了一种方法，该方法将基于金属辅助化学蚀刻（MACE）与光刻诱导的宏观诱导的孔隙率结合在一起，以合成单晶硅与双峰孔径分布，即通过六边形的静脉内部脉冲分离，以六边形的孔隙分布，以至于六边形分布，该分离是六边形的脉络孔分布的。 穿过。MACE过程主要由金属催化的还原氧化反应引导，其中银纳米颗粒（AGNP）用作催化剂。在此过程中，AGNP充当自螺旋体的颗粒，它们沿着轨迹不断去除硅。高分辨率的X射线成像和电子断层扫描显示出较大的开放孔隙度和内部表面，可用于在高性能的储能，收获和转换中，或用于芯片传感器和精神分线。最后，层次多孔的硅膜可以通过热氧化为层次多孔的无定形二氧化硅来转化结构，该材料可能特别感兴趣，对于光流体和（生物 - ）光子应用而导致其多孔具有多种形式的人工血管化。
隧道的各种金属尖端的系统电化学蚀刻
a）应向信件解决的作者：jianwangphysics@pku.edu.cn抽象硬点接触光谱和扫描探针显微镜/光谱是研究具有强大可扩展性的材料的强大技术。为了支持这些研究，需要具有各种物理和化学特性的技巧。为了确保实验结果的可重复性，应标准化尖端的制造，并应设置可控且方便的系统。在这里，提出了一种用于制造各种技巧的系统方法，涉及电化学蚀刻反应。反应参数分为四类：解决方案，电源，浸入深度和中断。设计和构建了蚀刻系统，以便可以准确控制这些参数。使用该系统，探索和标准化了铜，银，金，铂/虹膜合金，钨，铅，铅，铁，铁，镍，钴和薄金的蚀刻参数。在这些技巧中，探索并标准化了白银和尼伯族的新食谱。进行光学和扫描电子显微镜，以表征尖锐的针头。用蚀刻的银色尖端进行了相关的点接触实验，以确认被制成尖端的适用性。I.引言是研究超导体的强大工具，点接触光谱（PC）技术已成功地应用于对具有各种特性的材料的研究。1-8在实验中，PC被归类为软点接触和硬点接触。7-13前者通常使用银色涂料形成点接触。硬点接触中的技巧用法使PC具有更多的可能性。传统上，通过PCS，可以方便地测量超导体的超导差距和配对对称性，以及通过PCS进行的有关准二粒激发（例如镁质和声子）的能量信息。1-5近年来，在硬点接触实验中发现了尖端诱导的或增强的超导性，其机制归因于局部掺杂效应，局部高压效应和对边界的界面效应。
