TMI3408 是 1.5MHz 恒频、电流模式降压转换器。该器件集成了主开关和同步整流器,无需外部肖特基二极管即可实现高效率。它是为使用单节锂离子 (Li+) 电池供电的便携式设备供电的理想选择。输出电压可调节至 0.6V。TMI3408 还可以在 100% 占空比下运行,实现低压差操作,从而延长便携式系统的电池寿命。该器件提供两种操作模式,即 PWM 控制和 PFM 模式切换控制,可在更宽的负载范围内实现高效率。
加州桑尼维尔,2024 年 1 月 8 日,宽带隙功率半导体材料、组件和代工服务领域的新兴领导者三安半导体宣布 Luminus Devices 为其在美洲的独家销售渠道。这是一个自然而然的选择,因为两家公司都是三安光电的子公司,三安光电是化合物半导体创新者和全球最大的 LED 芯片制造商。这种合作的时机非常理想,因为近年来,各种电力相关行业的客户都因交货时间过长而受到影响,尤其是碳化硅 (SiC) 晶圆、肖特基二极管和 MOSFET。三安最近在中国长沙完成了价值 20 亿美元的“超级工厂”的建设,现在有能力为客户提供交货时间短的产品和代工服务,大多数产品的交货时间最短为 8 周。这座超级工厂的产能也使三安成为中国最大的垂直整合 SiC 制造商,也是全球第三大制造商。三安计划专注于代工服务,为需要 SiC 基板、外延片或裸片安全供应的成熟半导体公司提供支持。同时,三安提供 SiC 肖特基二极管和 SiC MOSFET 的交钥匙解决方案,为可再生能源和各种应用领域的新兴客户提供支持,例如工业电源、风力发电、储能、电机驱动、数据中心、暖通空调、电动汽车 (EV) 充电、光伏和其他高功率场景,在这些场景中,SiC 的优势可提供必要的稳健性、价值和效率。
由于能量的限制及其对总损耗的影响,介电基板的选择在射频频率下起着重要作用。与能量存储相关的基板介电常数显著影响电路在较高频率下的性能。根据介电常数行为,基板被分为有损介电常数或良好介电常数。损耗角正切值取决于介电常数,并影响传输线的品质因数。在硅中,由于金属-半导体结,金属接触会产生肖特基接触。这需要进行适当的公式化和建模,以预测电路行为。本文研究并详细介绍了掺杂、载流子迁移率、频率等各种现象是影响介电常数的主要因素,并研究了它们对损耗角正切的作用
XL4016 稳压器旨在最大限度地减少外部元件的数量。该模块由 XL4016 稳压器和一些其他有源(半导体)和无源元件组成。它具有 7805 5V 稳压器,可调节 LM358 芯片的输入电压,该芯片用作反馈电压比较器。TL431 用作分流稳压器,用作比较器电路的正电压基准。XL4016 是一个开关稳压器,这意味着它用作高频开关。双(肖特基)二极管用作电压整流器,它具有高速特性,这对于转换器的效率至关重要。电感线圈用作能量转换元件。转换器电路具有输入和输出电解电容器,它们用作滤波器,以清除电路中先前未调节和开关部分的纹波并存储电能。
摘要:过去几十年来,人们对基于半导体薄膜、纳米线和二维原子层的光电导体进行了广泛的研究。然而,没有明确的光增益方程可以用来拟合和设计这些器件的光响应。在本文中,我们根据实验观察,成功推导出硅纳米线光电导体的明确光增益方程。硅纳米线是通过标准光刻技术在绝缘体上硅晶片的器件层上进行图案化而制成的,该晶片上掺杂了浓度为 ∼ 8.6 × 10 17 cm − 3 的硼。研究发现,制成的硅纳米线具有宽度约为 32 nm 的表面耗尽区。该耗尽区保护沟道中的电荷载流子免受表面散射的影响,从而使电荷载流子迁移率与纳米线尺寸无关。在光照下,耗尽区呈对数变窄,纳米线沟道相应变宽。光霍尔效应测量表明,纳米线光电导不是由载流子浓度的增加引起的,而是由纳米线通道的加宽引起的。因此,纳米线光电导体可以建模为与纳米线表面附近的浮动肖特基结相关的电阻器。基于肖特基结的光响应,我们推导出纳米线光电导体的显式光增益方程,该方程是光强度和器件物理参数的函数。增益方程与实验数据非常吻合,从实验数据中我们提取出少数载流子的寿命为几十纳秒,与文献中报道的纳米线中少数载流子的寿命一致。关键词:光电导体,显式增益方程,增益机制,硅纳米线,光霍尔效应 P
明确研究了直径 400 μ m 的中子辐照 (NI) GaN 肖特基势垒二极管 (SBD) 的温度相关电特性。根据 CV 测量,与原始样品相比,NI 二极管的电子浓度明显下降,表明存在热增强载流子去除效应。中子辐照会导致明显的肖特基势垒高度不均匀性,这可以通过双势垒模型进行研究。数据表明,中子辐照会对漏电流以及低频噪声水平产生微小但可测量的抑制。尽管发现了新的深能级陷阱,但温度相关的电学结果表明 GaN SBD 具有出色的抗中子辐照性能和在极端工作温度下的稳定性。