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在当今技术驱动的社会中,许多重要的电子、磁性和光子器件的生产规模不断缩小。为了最大限度地提高元件密度并进一步减小尺寸,这些器件也被制造成多层、部分金属化的结构。一个众所周知的例子是微电子器件/集成电路,其结构可以有一层到五层或更多层,厚度可能只有 2-10 微米(图 1)。在该器件的各个层中,重要特征的尺寸范围可以从大约 100 微米到数十纳米。这种材料、厚度和分辨率超出了传统光学显微镜的范围,但对材料科学、微电子学和新兴的纳米科学界来说至关重要。

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