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摘要 - 末期，高光谱（HS）成像已成为通过联合获取空间和光谱信息来远程识别兴趣区域的强大工具。但是，就像在大多数成像技术中一样，数据采集期间可能会发生不良影响，例如噪声，光强度的变化，温度差异或光学变化。在HS成像中，可以使用反射校准阶段和光学过滤来减弱这些问题。然而，光学填充可能会引起某种失真，这可能会使后图像处理阶段复杂化。在这项工作中，我们提出了一项重新反映校准的新建议，该建议可以补偿在获得HS图像期间的光学变化。对具有特定光谱响应的各种材料的合成正方形的HS图像进行了评估。我们的提案结果使用K-均值算法的两次分类测试显示出高性能，其精度为97％和88％；与获得77％和64％精度的文献相比，与标准反射校准相比。这些结果说明了所提出的配方的性能增益，除了维持HS图像中的特征性特征外，还可以使结果反射到固定的下层和上限，从而避免了后校准后的归一步步骤。索引术语 - 光谱成像，光学滤波器，反射校准
反射率校准，具有高光谱成像的归一化校正
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