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未来十年，全球光掩模业务既面临巨大机遇，也面临巨大挑战。预计半导体业务在 2020 年至 2030 年期间的复合年增长率将达到 9.9%，这将推动光掩模市场的增长。与这一预期增长相吻合的是，光掩模行业正面临严重的设备淘汰问题，这将需要在此期间更新或淘汰和更换许多支持 >=28nm 技术的传统工具。本演讲将回顾这些趋势给光掩模和半导体市场带来的挑战。我们将回顾我们之前发表的论文中的光刻系统增长估计，并将该分析扩展到所有光掩模设备。这种环境对半导体和光掩模供应链的业务影响都至关重要。
