图S1:用于测量来自半导体晶体HHG的单光束二阶强度相关的强度相关测量设置的实验配置。超短脉冲通过半波板和偏振器(P),并在半导体样品上以镜头(F 1)聚焦,达到了与焦点处的材料内部原子场强度相当的电场强度。生成的辐射通过光圈(a)在空间上滤波,并沿主排放极化(P)轴选择。剩余的红外泵光子被过滤。使用镜头(F 2)将选定的HHG辐射朝向检测器臂进行编织。之后,H3和H5用两个二分性镜(DM 1和DM 2)在空间上分离。进一步的光谱过滤是通过窄带过滤器在HBT类似设置之前完成的,以将光子到达时间关联。最后,两个类似的镜头(F 3)将辐射聚焦于Spad芯片上。Spads以Geiger模式进行操作,并用作由数字转换器介导的开始停机测量的输入。
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