Loading...
机构名称:
¥ 1.0

说明:在Web门户网站中,完成与本应用程序中将包含的设施相关的所有问题。作为概念计划一部分提交的信息可能已经出现在相关字段中。您可以选择直接更新此信息或保持不变,前提是您进行了审查并确认其准确性。本申请中使用的“设施”是指半导体材料设施或半导体制造设备设施设备,该设备的资本支出低于3亿美元,该设备将由于该项目而建造,扩展或现代化。根据小型供应商NOFO,应用程序可能包括一组单个设施的建设,扩展或现代化的资本支出。

完整申请表和叙述的指导指南

完整申请表和叙述的指导指南PDF文件第1页

完整申请表和叙述的指导指南PDF文件第2页

完整申请表和叙述的指导指南PDF文件第3页

完整申请表和叙述的指导指南PDF文件第4页

完整申请表和叙述的指导指南PDF文件第5页

相关文件推荐

2023 年
¥3.0
2008 年
¥4.0
2022 年
¥1.0
2018 年
¥11.0