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高Na EUV扫描仪的引入预计会导致EUV面罩和相关设备的结构发生许多变化。具体来说，用于高NA面膜的新材料可以增强EUV面膜性能，并且EUV颗粒正在基于CNT膜积极改进。此外，针对高NA口罩的测量和检查（MI）技术面临着挑战性的情况，许多公司正在开发新的解决方案。在本演讲中，我们将展示我们目前在高NA EUV面具和相关设备方面的成就。介绍作者in-Yong Kang获得了他的博士学位。D. 2008年汉阳大学材料科学与工程学的学位。他于2008年开始在三星电子产品开始，并从事与EUV面罩开发有关的各种主题。他目前正在Mask Development Team的高级技术集团小组负责人工作，专注于新的EUV材料和设备，用于高NA面具。

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主要关键词

2008 材料科学 NA 扫描仪 CNT 正在设备技术相关 Na EUV 开始负责人设备的面具面膜工程学解决方案面罩有关的

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