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通过粘附光刻悬浮的单层石墨烯
•昆士兰大学旅游业教授鲍勃·麦克凯尔（Bob McKercher）•塔斯马尼亚大学旅游业教授安妮·哈迪教授•伯明翰大学营销教授斯科特·麦卡比（Scott McCabe）教授，伯明翰大学，共同编辑，主要旅游研究主席：我们鼓励与会者阅读并反思下面列出的这些简短读数，以在本次会议中获得最大的收益。Elangoven＆Hoffman（2019）在学术界追求成功：柏拉图的幽灵问“那又怎样呢？”管理杂志，1-6 https://doi.org/10.1177/1056492619836729 Benjamin，S.，Lee，K。S.，＆Boluk，K。（2024）。狗屎必须改变，对吗？在旅游业中寻求“好麻烦”的呼吁。旅行研究杂志，https://doi.org/10.1177/00472875241276542 Gard-McGehee，N。（2024）。共同编辑的信：是的，“狗屎必须改变。”但是如何？呼吁深入的奖学金社会运动。旅行研究杂志，https://doi.org/10.1177/00472875241288510 Dolnicar，S。（2024）不喜欢出版或灭亡文化？您只有两个选项：加油或抗拒。您会选择哪个？旅游研究年鉴（观点），https：//doi.org/10.1016/j.annals.2024.103865 11:00 - 11:30早晨茶点
混合玻璃中稳定量子点的三维直接光刻
摘要 半导体量子点 (QDs) 作为高性能材料，在当代工业中发挥着重要作用，这主要是因为它们具有高光致发光量子产率、宽吸收特性和尺寸相关的光发射。使用 QDs 作为微光学应用的构建块来构建定义明确的微/纳米结构至关重要。然而，制造具有设计功能结构的稳定 QDs 一直是一个挑战。在这里，我们提出了一种在具有特定保护性能的混合介质中对所需 QDs 进行三维直接光刻的策略。丙烯酸酯功能化的混合前体通过超快激光诱导多光子吸收实现局部交联，实现超越衍射极限的亚 100 纳米分辨率。印刷的微/纳米结构具有高达 600 ◦ C 的热稳定性，可以转化为体积收缩的无机结构。由于 QDs 封装在密集的硅氧分子网络中，功能结构表现出良好的抗紫外线照射、腐蚀性溶液和高温稳定性。基于混合三维纳米光刻技术，可制备双色多层微/纳米结构，用于三维数据存储和光学信息加密。本研究为制备所需的量子点微/纳米结构提供了一种有效的策略，支持开发稳定的功能器件应用。
壳聚糖作为绿色光刻水显影 193 nm 光刻胶
HAL 是一个多学科开放存取档案库，用于存放和传播科学研究文献，无论这些文献是否已出版。这些文献可能来自法国或国外的教学和研究机构，也可能来自公共或私人研究中心。
采用生物可吸收氨基酸基树脂进行 3D 多光子纳米光刻
摘要：我们证明，新设计的含有聚合用乙烯基反应基团的氨基酸磷二酰胺树脂 (APdA) 可用于通过 3D 多光子光刻制造亚 100 纳米结构。我们使用原子力和单分子荧光显微镜定量分析了纳米结构的特征尺寸、杨氏模量和功能化。我们的结果表明，由缬氨酸或丙氨酸组成的聚合物主链赋予单体疏水性，将聚合物纳米结构在水环境中的膨胀限制在 8% 以内。尽管膨胀很小，但实验表明，在干燥和潮湿条件下，杨氏模量变化高达 10 倍。为了增强基于 APdA 的结构的多功能性，我们加入了生物素功能化并将其用于固定细胞外囊泡。因此，这些发现凸显了基于 APdA 的纳米光刻光刻胶在生物医学和纳米技术应用方面的潜力。
X-Photon 3D光刻通过FS振荡器：波长 - ...
激光直接写作采用多光子3D聚合化是一种科学和工业工具，用于各个领域，例如微观，医学，超材料，可编程材料等，由于高吞吐量和良好的特征融合到数百nm。技术适用性的某些局限性从照片牙质特性中出现，但是随着光激发条件的变化，任何物质修改都会强烈影响其可打印性。在这里，我们使用低峰功率激光振荡器提出了非波长的3D聚合。使用高脉冲重复率和快速激光直接写作，用于从SZ2080 TM照相抗体中推进添加剂制造，而无需任何照相机。波长为517 nm，780 nm和1035 nm的波长被证明适合于高达10 5 µm/s的写作速度，也适用于产生300 nm聚合的特征。杂交材料中有机无机比率的变化会导致动态制造窗口的变化和减少，但并没有禁止光结构。由于局部加热实现有效的3D打印，因此可以实现每个焦点的控制能量沉积。这种空间选择性的光化交叉链接扩大了非光敏感材料的光学制造能力。
EUV 光刻胶模型的解离光电离
从使用 248-193 nm (4.8-6.4 eV) 的深紫外 (DUV) 光刻技术转变为使用 13.5 nm (92 eV) 的极紫外 (EUV) 光刻技术，这意味着光与光刻胶薄膜相互作用的方式发生了根本性的变化。虽然 DUV 光通过共振激发选择性地激活光刻胶材料中的化学键，但 EUV 的高光子能量本质上会触发电离事件，但该过程仅具有较低的局部选择性。此外，初级光电离事件会导致光刻胶薄膜中发生复杂的辐射化学反应。为了设计适用于 20 nm 以下特征尺寸成像的强效 EUV 光刻胶材料，了解并最终控制用 EUV 辐射成像的光刻胶膜中的物理和化学过程至关重要。本文使用气相光电子光离子巧合 (PEPICO) 光谱研究了甲基丙烯酸叔丁酯 (TBMA) 的解离光电离，TBMA 是一种广泛用于化学放大光刻胶 (CAR) 聚合物的单体单元。通过只关注 EUV 光子与光刻胶相互作用的初始步骤，可以降低化学的复杂性，并获得如果没有这种孤立视角就无法获得的深刻基本见解。这些见解与进一步的补充实验相结合，是解密 EUV 光刻中的完整化学和物理过程的基本组成部分。
使用遗传算法，粒子群优化的综合方法的设计，用于优化电子束光刻，
摘要：随着先进制造对精确微型和纳米级图案的不断增长的要求，迫切需要对EBL过程的优化。当前的优化方法涉及GA与GWO或PSO与GWO等组合，而GWO与不良的探索 - 探索折衷折衷相困难，因此融合到次优溶液或溶液的不足。通过创新的自适应狼驱动的蜂群进化方法克服了上述挑战，使GA，PSO和GWO的优势协同以进行EBL的优化过程。从GA中产生多样化的解决方案人群是AWDSE的开始，以确保搜索空间中的广泛探索。此外，使用GWO的基于角色的分类将解决方案分层分类为不同的角色：Alpha，Beta，Gamma，Delta。的解决方案（Alpha，beta）通过基于PSO的更新来完善，这些更新通过更新解决方案来利用搜索空间，而解决方案排名较低（Gamma，delta）则受到GA驱动的交叉和突变操作，以维持多样性和探索。GA的进化操作与PSO粒子更新之间的自适应切换肯定是由GWO的领导动力驱动的，GWO的领导动力可以使多样化强化的更密集平衡，从而可以提高收敛精度和速度。实验结果证明，AWDSE能够提高约18％的临界维度，而延迟时间的收缩率达到12％，效果超过了GA-GWO和PSO-GWO的传统方法。这一进步强调了AWDSE可以显着提高EBL效率和准确性的可能性，而远离纳米制造过程的景色却越来越快。
全力关注太空：蔡司 SMT 收购 RUAG International 的光刻业务
RUAG International 和 ZEISS SMT 已签署收购光刻部门的合同，包括与位于瑞士苏黎世和德国科斯维希的两个生产基地相关的所有员工和资产。“自 2001 年以来，我们就一直在光刻应用方面积累经验，并与我们的主要客户 ZEISS SMT 成功合作。2022 年 10 月将光刻部门作为独立实体成立是一项战略举措，旨在巩固我们的市场地位，同时继续作为独立的单一来源供应商为 ZEISS SMT 生产专用组件。今天，我为我们的光刻团队所取得的成就感到无比自豪，”RUAG International 首席执行官 André Wall 说道，并总结道，“ZEISS SMT 拥有卓越的市场地位。有了新的所有权，我们为光刻部门提供了理想的环境，以进一步发展我们多年来积累的卓越能力。”
Abigail Nieves Delgado b i o g r a p h y 通过粘附光刻悬浮的单层石墨烯 2月10日星期一 年轻，青少年大脑的科学和及时的职业决定 ge/gesn纳米线用于中红外感测和成像 2025年5月21日，星期三 葡萄牙经济的Azorean海事与与海事相关的活动... 通过金属有机化学蒸气沉积的2D半导体的合成和掺杂 Lumit细胞因子传单 - hibit蛋白质标签 fady R. Mohareb 活细胞中的激酶目标参与 katja pinker-domenig博士 北极冬季冰的气候和年际变异性在ICESAT-ERA Moiré材料 自动移动机器人
我是乌得勒支大学弗洛伊达尔研究所的副教授。我的研究专注于生命科学的历史和哲学。我的研究的主要目的是停止科学和社会中的种族主义。为此，我研究了科学史以及当代生物医学研究（例如，在微生物组研究和表观遗传学）和生物识别技术（例如面部识别）中的种族化实践。我还调查了拉丁美洲的跨学科知识生产和民族生物学历史的政治。我是由荷兰研究委员会（NWO）资助的“微生物组研究与种族”项目的主要研究者（2024-2029）。
追踪极紫外光刻技术的出现
仔细研究支持 EUV 开发的研究界对于当今的政策制定者和半导体行业尤其重要。EUV 研究始于 20 世纪 80 年代，当时美国半导体行业在双方政府的大力干预下试图抵御崛起的日本公司。与此同时，该行业认识到，新一代光刻光源对于制造未来的先进芯片以维持摩尔定律是必不可少的。今天也存在类似的情况，美国、欧洲和亚洲的政策制定者都在进行千载难逢的努力来保护和促进各自的半导体行业，而崛起的中国公司则试图挑战行业领导者。与此同时，整个半导体行业都认识到一场缓慢发展的生存危机：人工智能的快速发展必须由相应的计算能力的快速发展来维持。然而，摩尔定律的终结就在眼前，即使是 EUV 也无法拯救它。4