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在某些合成条件下,自旋寿命已达到 800 纳秒,但需要做一些工作才能在芯片的硅(或其他)基板上重现这一结果。晶圆上的均匀性(确保一致的电气和光学特性)和样品芯片之间的可重复性(可变性)对于重现芯片至关重要。均匀性和可变性都得到了显著改善,标准偏差从 25-100% 降至约 7%。
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