图 1:O-IDFBR(a)、O-IDTBR 和 EH-IDTBR(b)的化学结构,P3HT:O-IDFBR(红色方块)(c)、P3HT:O-IDTBR(蓝色圆圈)、P3HT:EH-IDTBR(绿色三角形)(d)二元共混物的相图,这些共混物是基于首次加热 DSC 热分析图获得的。根据熔点下降情况,O-IDFBR 最初倾向于与 P3HT 混合,而不是 O-IDTBR 和 EH-IDTBR。二元 P3HT:O-IDFBR 的相图显示 40-80 wt% O-IDFBR 的组成窗口,其中 O-IDFBR 没有熔点下降,而 P3HT 熔点下降高达 70 wt% O-IDFBR。 40 wt% O-IDTBR 和 50 wt% EH-IDTBR 的共晶组成表明,与 EH-IDTBR 相比,O-IDTBR 的纯初晶开始发育得更早,且 O-IDTBR 的组成更低,这与 O-IDTBR 比 EH-IDTBR 具有更平面(潜在结晶)的化学结构相一致。e)、(f):测得的器件短路电流密度 J sc ,作为 P3HT:O-IDTBR 和 P3HT:O-IDTBR 非退火混合器件组成的函数。J sc 在共晶组成即 40-50 wt% 附近达到峰值,而 P3HT:O-IDFBR 的 J sc 峰值远低于可能的 80 wt% 共晶组成。
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