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用于制造或生产的半导体材料设施(包括生长或提取)用于制造半导体的材料,这些材料是化学物质,气体,原料和中间材料以及用于半导体制造中使用的其他消耗品。具体示例包括但不限于多硅烷;光吸毒者和辅助师(开发人员,脱衣舞娘,岩石溶剂以及反射性和顽固的层);溅射靶标(包括塔塔勒姆,钛和铝);以及专门用于量子信息系统(例如Hafnium和Niobium)的材料。仅当第IV.I.7节所定义的资本投资等于或超过3亿美元时,仅当商业半导体材料设施的建设,扩展或现代化才有资格属于该NOFO。
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