Loading...
机构名称:
¥ 2.0

MA Gorlach. et al. Nat. Commun., (2018)干法蚀刻是电介质超表面的必要部分!

Si、Si3N4 和 InGaAsP 光学超表面的制造...

Si、Si3N4 和 InGaAsP 光学超表面的制造...PDF文件第1页

Si、Si3N4 和 InGaAsP 光学超表面的制造...PDF文件第2页

Si、Si3N4 和 InGaAsP 光学超表面的制造...PDF文件第3页

Si、Si3N4 和 InGaAsP 光学超表面的制造...PDF文件第4页

Si、Si3N4 和 InGaAsP 光学超表面的制造...PDF文件第5页