机构名称：
¥ 1.0
图S2显示了一个简化的MIC阶段的通用模型，用于n = 1.75的FSI插入。如主文本中指定的，可以看到在石墨烯层之间有或没有intercalant的画廊的交替。多个插入阶段的共存将导致使用公式1.如果占用石墨烯层之间的每个空间，则N等于1，并且X射线衍射图上的反射00n+1应该消失。这是对PF 6-阴离子的观察到的，但是，该过程的性质仍然可以讨论，并计划对此进行详细研究。我们介绍了两种情况的MIC期限。观察到的现象的另一个原因可能是主要文本中指定的两种机制的混合物：层间空间的顺序和随机统计填充。随着温度升高，可能会预期客人物种的随机分布，因为熵因子对系统的吉布斯自由能的贡献应相应增加。此外，还必须注意以下事实：根据其初始层间间距，由温度引起的互化机制的变化可能有所不同，这将代表一个有趣且广泛的方向探索。阴离子扩散
在升高温度下
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