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在这里，我们结合了两种不同的溅射配置，并改变过程参数以获得黑色Tio X的薄膜。通过闭环残余气体监测系统结合使用了两个金属钛靶标的双极磁控子溅射与氧部分压力控制。在双极溅射模式下的两个目标之间的功率分布因样品而异，而氧部分压力保持恒定。这会导致一个目标转移到氧化状态，而另一个目标则转移到金属状态。由于金属靶标的溅射较高，因此该过程导致离子计量学样本较高。与没有修饰功率分布的样品相比，这些样品表现出宽带的吸收和光电化学活性（最高五次）。根据薄膜的光电和微结构分析讨论结果。
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