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我们概括了天然NB 2 O 5溶解模型[G. Ciovati，应用。物理。Lett。 89，022507（2006）]到顺序叠加剂溶解，多层溶解和现实温度曲线，可能适用于其他材料。 该模型应用于不同温度曲线和NB中的两步氧化物溶解的次级离子质谱深度测量值，并发现良好。 在伦敦穿透深度长度上的杂质剖面引起的Meissner筛选响应的背景下，O杂质的浅扩散导致表面附近的峰值超电流密度大大降低。 在此框架中，氧化物溶解和氧扩散可以说明SRF腔中峰值磁场的上升，并在达到最佳烘焙时间后进行烘烤时间和次要压力，与峰值场烘烤温度和峰值烘焙温度和时间以及最近的淬火场测量均吻合。Lett。89，022507（2006）]到顺序叠加剂溶解，多层溶解和现实温度曲线，可能适用于其他材料。该模型应用于不同温度曲线和NB中的两步氧化物溶解的次级离子质谱深度测量值，并发现良好。在伦敦穿透深度长度上的杂质剖面引起的Meissner筛选响应的背景下，O杂质的浅扩散导致表面附近的峰值超电流密度大大降低。在此框架中，氧化物溶解和氧扩散可以说明SRF腔中峰值磁场的上升，并在达到最佳烘焙时间后进行烘烤时间和次要压力，与峰值场烘烤温度和峰值烘焙温度和时间以及最近的淬火场测量均吻合。
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