• 每层数百万张图像 • 不同层和区域的图像变化 • 样品制备和成像的异常 • 特征尺寸小/特征之间的间隙窄
印刷有机和无机电子器件在传感器、生物电子学和安全应用中继续受到广泛关注。尽管印刷技术通常具有数十微米范围内的典型最小特征尺寸,并且需要在高温下进行后处理程序以增强功能材料的性能,但人们已经研究了许多印刷技术。在此,我们介绍了使用三种不同油墨(半导体 ZnO 以及金属 Pt 和 Ag)进行激光打印,这是一种制造最小特征尺寸低于 1 µ m 的印刷功能电子设备的简便方法。ZnO 打印基于激光诱导热液合成。重要的是,这三种材料中的任何一种在激光打印后都不需要进行任何类型的烧结。为了证明我们方法的多功能性,我们展示了功能二极管、忆阻器和基于 6 × 6 忆阻器交叉结构物理上不可克隆的功能。此外,我们通过结合激光打印和喷墨打印实现了功能晶体管。
机械超材料的独特机械性能源于其结构设计而不是物质成分,它在工程应用中广受欢迎。尤其是,与增材制造(AM)相比,自组装技术的最新进展为具有无与伦比的特征尺寸控制和可伸缩性提供了具有无与伦比的特征尺寸控制和可伸缩性的材料的潜力。然而,该领域仍处于早期阶段。从这个角度来看,我们首先概述了最先进的自组装技术,重点是共聚物和胶体晶体自组装过程。然后,我们讨论该研究领域的当前挑战和未来机会,重点介绍了新颖的制造方法,对高通量表征方法的需求以及机器学习(ML)(ML)和实验室自动化的整合。鉴于在所有这些领域的最新进展,我们预见了由自组装技术制造的机械超材料,这些技术会影响各种应用,这些应用依赖于轻巧,坚固和坚固的材料。[doi:10.1115/1.4064144]
(环境保护机构、国家安全机构等)大型无人机 大型无人机的情况:RPA 最大特征尺寸<8m 与 MTOW>25kg 相关,GRC 将为 4,无缓解措施。为了达到与前一种情况相同的最终 GRC,即相同的 SAIL 等级,需要包括一个系统来减少中等强度的地面撞击的影响 降落伞。
UV-KUB 3 是基于掩模对准系统的 UV-LED,可用光源为 365nm。这是一款非常紧凑的台式系统,可兼容 4 英寸晶圆或 6 英寸晶圆(具体取决于版本)。由于特定的光学布置提供了最大发散角小于 2° 的准直光束,因此可实现的最小特征尺寸为 1µm。UV-KUB 3 系统兼容硬(物理)或软(接近)掩模接触模式,并提供低至 1µm 的对准分辨率。该掩模对准系统支持所有标准光刻胶,例如 AZ、Shipley、SU-8 和 K-CL。
信息可以通过量子单元内电子电荷的配置进行编码 [5]。在 QCA 中,没有电流流动。单元内的一对电子根据电子相互作用的原理改变其位置。QCA 技术是绕过基于晶体管的器件的理想解决方案,因为它在功耗和速度方面存在许多限制 [3]。QCA 技术具有许多有趣的特性,例如低功耗、高频处理和小特征尺寸 [6]。数字系统的当前趋势是降低电路的复杂性;在这种情况下,QCA 会派上用场。在这项工作中,提出了一种新的 2:1 QCA-MUX 结构。所提出的门在面积、复杂性(单元数)和成本方面都更胜一筹。2. 背景
本文研究了低能质子诱导多特征尺寸NAND闪存单粒子效应灵敏度。在0.41 MeV质子作用下,25nm和16nm闪存器件出现了单粒子效应截面峰值。SRIM模拟揭示了这种现象产生的主要原因,低能质子直接电离引起的单粒子翻转比高能质子核反应引起的单粒子翻转要高几个数量级。此外,还研究了累积剂量对闪存器件单粒子效应灵敏度的影响。随着累积剂量的增加,单粒子翻转截面显著增加。这种现象的出现是由于质子和累积剂量的结合引起的阈值电压偏移造成的。