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简介辉光放电发射光谱法开发于 20 世纪 60 年代末至 80 年代，经过近几年的发展发生了翻天覆地的变化。该法能够表征导电和非导电样品，因此能够分析各种各样的样品。最新的发展 [1] – 脉冲射频发生器、超快溅射、差分干涉法 – 以及特殊配件 – 锂钟、铟套件 – 使其成为一种用途更广的技术。辉光放电发射光谱法现能够满足冶金行业的多种应用需求，从涂层钢、铝箔和电镀，到涉及非导电有机层的先进封装应用。GD-OES 还可以用于腐蚀研究和具有挑战性的形状样品，如钻头。
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