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摘要 成熟的 Abbe 公式是当今最常用的用于精确模拟半导体光刻中使用的部分相干投影系统图像的方法之一。接近理论分辨率极限的光刻成像系统的开发和应用以及对更大掩模区域的高精度模拟的需求需要对经典的 Abbe 方法进行几项扩展。本文介绍了 Abbe 方法的基础知识，包括所谓的霍普金斯假设。为了精确模拟当今的光刻系统，必须描述和考虑重要的物理效应，如强离轴照明、小特征尺寸、超高 NA、偏振相关行为、成像缩小、像差、切趾和琼斯瞳孔。本文介绍了 Abbe 方法的扩展。应用示例证明了新方法的准确性、灵活性和计算性能。 关键词：光刻模拟、图像模拟、图像建模、Abbe 方法
光刻投影系统的图像模拟
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