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摘要:持续的发光材料在智能信号,抗矛盾和体内成像等各个领域都有应用。但是,缺乏对控制持续发光的确切机制的透彻理解,因此很难开发优化它的方法。在这里,我们提出了一个精确的模型,以描述Znga 2 O 4:Cr 3+的持续发光的各种过程,这是现场的主力材料。已经解决了一组速率方程,并且已经对电荷/放电和热发光测量进行了全局拟合。我们的结果建立了陷阱深度分布和余滴动力学之间的直接联系,并阐明了与Znga 2 O 4:Cr 3+纳米颗粒相关的主要挑战,确定了较低的陷阱概率和光学偏差,这是限制Znga 2 O 4:CR 3+的主要因素,并与大型Margin进行改进。我们的结果强调了准确建模对于未来余辉材料和设备设计的重要性。

陷阱深度分布决定余辉动力学

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