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在过去的 50 年里，真空技术已经得到了长足的发展和成熟，但在工业应用方面仍然存在重大挑战需要克服，以确保真空处理产品的可靠性和质量，并提高日益复杂的真空工艺的成本效率。现有的真空测量标准为平衡条件下的纯气体提供从 10 -9 Pa 到 10 5 Pa 的可追溯性。然而，工业过程很少使用纯气体（例如电子制造中的物理和化学气相沉积或硬化工具的涂层等），并且经常在压力动态变化的非平衡环境中进行（例如光盘制造中的物理和化学沉积）。缺乏工业相关标准和可追溯性意味着制造商和最终用户通常难以获得其工艺参数的可靠和有代表性的测量结果。
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