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最新的纳米印刷谱依赖于13.5 nm极端紫罗兰色（EUV）光，这些光（EUV）是由Tin激光生产的等离子体（LPP）产生的。1–3热和致密的锡血浆的扩展可能会以多种方式阻碍EUV源操作，在这种方面，高能离子可能会损坏或涂上EUV euv光学元件。4,5有效缓解方案是消除这种不良过程的EUV来源所必需的。这些缓解方案可能包括使用缓冲气体停止和去除离子碎片6,7或使用强磁场将其转化为脱离等离子收集器镜子的情况。5,8–11在没有任何形式的缓解形式的情况下，理解驱动血浆扩展的机制而有益于理解驱动血浆扩展的机制。血浆扩展到真空12–14的分析模型已经开发了多年，并且已应用于TIN激光生产的血浆扩展的特定情况。最近15,16，Hemminga等。17进行了二维（2D）辐射流动力学模拟，从激光辐照的锡液滴中进行了血浆扩展，因为发现强烈简化的分析模型无法完全捕获扩张。采用单流体单温方法的模拟与从A
在ND膨胀中强烈各向异性离子发射：...
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