机构名称：
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CAPVD 的主要优势包括：形成高密度、高附着力的涂层，具有良好的沉积速率和厚度控制（± 5 纳米）。ARCI 的半工业化设备配备 400 毫米长（Ф：110 毫米）圆柱形阴极，与任何其他传统 CAPVD 设备相比，它能够减少液滴形成。要涂覆的目标的最大尺寸可以是：350 毫米长 x 100 毫米宽（Ф）。CAPVD 设备具有独特的优势，可用于开发汽车、航空航天、制造、光学、电子、替代能源等主要领域的薄膜/涂层。
阴极电弧物理气相沉积 (CAPVD)
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