机构名称：
¥ 1.0
简介我们正处于 3D 纳米成像方法飞速发展的时代。电子断层扫描可用于以原子分辨率对纳米粒子进行成像，但当样品厚度接近 1 µ m 时，多重散射效应开始降低可实现的空间分辨率。在可见光显微镜中，稀疏纳米粒子或可切换荧光团可以定位到厚度约为 1 µ m 的样品层中的几纳米范围内，而共聚焦和多光子显微镜可用于对厚度高达几百微米的样品实现大约 200 纳米的分辨率。然而，X 射线的独特之处在于它能够穿透毫米级样品，再加上相对缺乏多重散射和纳米级波长，从而实现高空间分辨率 [1]。随着同步加速器光源设施的不断改进，可用的准时间连续相干 X 射线通量几十年来一直以与电子学中的摩尔定律类似的速度增长，如图 1 所示。高相干通量通过提供足够的光子来对精细、低对比度的特征进行成像，使空间分辨率可以推至 10 纳米以下 [2]。进一步的增加将允许更快的成像、更大的视野，以及从对单个样本进行成像到从多个样本中获得具有统计意义的见解的能力。
无透镜 X 射线纳米成像：革命与机遇
主要关键词
相关文件推荐
