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摘要 纳米压印光刻（NIL）是一种能够实现低成本、高通量纳米加工的新兴技术。近年来，NIL 的主要发展方向是高通量和大面积图案化。紫外固化型 NIL（UV NIL）可以在室温和低压下进行。UV NIL 的一大优势是它不需要真空，大大简化了工具构造，从而无需真空操作的高精度工作台和大型真空室。然而，非真空环境下的一个关键问题是气泡的形成问题，即气泡能否从光刻胶中完全去除。本文对非真空环境下 UV NIL 中采用液滴涂抹法形成气泡的情况进行了实验研究，研究了液滴体积和涂抹点数量对气泡形成的影响。
根据 UV NIL 工艺中的液滴数量和应用方法研究气泡的形成
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