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摘要 有机-金属和有机-有机界面几乎决定了所有有机光电应用的功能，能级排列对器件性能尤为重要。通常，能级排列仅通过金属功函数和有机材料的电离能和电子亲和力来估计。然而，各种界面效应，如推回、镜像力（也称为屏蔽）、电子极化或电荷转移都会影响能级排列。我们对 Ag(111) 上的铜-十六氟酞菁 (F 16 CuPc) 和钛氧基酞菁 (TiOPc) 薄膜进行 X 射线和紫外光电子能谱 (XPS 和 UPS) 测量，并使用 TiOPc 双层将 F 16 CuPc 层与金属基底分离。即使对于我们结构上表征良好的模型界面以及通过逐步制备真空升华样品，精确分配真空能级和能级偏移仍然具有挑战性。尽管如此，我们的结果为有机-金属和有机-有机界面的 XPS 和 UPS 数据的解释提供了指导。
材料有机金属和...的高级表征
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