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¥ 1.0
第二，具有侵略性的干蚀刻和湿清洁，对于最佳波导图案至关重要，可能会损害纳米线的制造产量和整体检测器性能。根据所选过程流量，可以实施几种缓解策略。在检测器优先的方法中（在波导蚀刻之前制造纳米线），可以应用封装层以减少纳米线降解。22相反，波导优先的方法（在波导蚀刻后产生纳米线）自然会暴露于侵袭性化学物质中。但是，这种方法可能导致纳米线制造过程的波导质量降解，从而增加了光损失。此外，波导的表面粗糙度可以影响检测器的产量。21在这种情况下，缓冲层20在随后的处理过程中为波导提供了保护，同时也有可能降低表面粗糙度。纳米线的产量也可以通过使用无定形超导体来提高，因为它们的底物要求较少。22
钼硅质超导纳米线单...
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