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由于高发射极掺杂的影响,传统发射极双极晶体管的电流增益受到限制。理论上,通过使用非常小的基极宽度和高发射极掺杂密度,传统发射极晶体管可以获得更高的增益。然而,增加发射极掺杂会降低带隙并增加少数载流子复合 [1]。结果是发射极注入效率降低,电流增益没有实际改善 [2]。增加发射极掺杂还会产生有害影响,降低发射极-基极击穿电压 (BVebo) 并增加发射极-基极结电容 [3]。与传统发射极相关的另一个问题是缩放。当发射极结深度低于 0.2 微米时,少数载流子扩散长度变得大于发射极,这进一步降低了电流增益 [4]。使用多晶硅作为发射极是避免这些问题的一种方法。

多晶硅发射极双极晶体管

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