摘要 — 当前的半导体器件制造通常需要集成热预算较低的退火工艺步骤;其中,脉冲激光退火 (LA) 是一种可靠的选择。因此,使用 LA 专用技术计算机辅助设计 (TCAD) 模型正在成为开发这种特殊加热方法的支持。无论如何,已经在学术或商业软件包中实现的模型通常会考虑一些近似值,如果将它们应用于相当常见的纳米器件配置,可能会导致不准确的预测:即具有纳米宽元素的结构,其中也存在非晶态口袋。特别是,在这些情况下,可能会发生非扩散热传输和爆炸性结晶。在这里,我们介绍了 LA TCAD 模型的升级,允许模拟这些现象。我们将证明这些模型可以可靠地集成到当前的 TCAD 软件包中,并讨论某些特定情况下数值解特征的主要特征。
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