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JX先进金属集团中长期经营战略和经营目标 JX先进金属株式会社（社长：林洋一；“本公司”）更新了2023年5月公布的2023年至2025年度中期经营计划，并根据当前的举措和经营环境制定了中长期经营战略和经营目标。 为了确保这些战略和目标的实施和实现，JX先进金属株式会社及其子公司和附属公司（“本集团”）将作为半导体和ICT材料领域的全球领导者，共同努力，以先进材料为社会发展和创新做出贡献。 1.经营方针 2019年6月，本集团制定了长期愿景2040（2023年5月部分修订），并确立了基本方针。本集团从“流程工业型企业”转型为“技术型企业”，在日益激烈的国际竞争中，力争成为半导体和ICT材料领域的全球领导者，实现高利润结构，为实现可持续发展社会做出贡献。在这一方针下，我们将半导体材料部门和ICT材料部门组成的重点业务定位为增长战略的核心，开发先进材料领域的差异化技术，开拓市场，力争实现超过市场增长的利润增长。对于由金属和回收部门组成的基础业务，在最佳规模的业务结构下，我们旨在通过稳定供应铜和小金属来支持重点业务，同时为解决ESG问题做出贡献。 2. 经营环境展望 (1) 重点业务：半导体材料部门 2017年至2022年，半导体逻辑和存储器市场年均增长率为6.1%1。2023年市场继续调整。然而，展望未来，预计在生成式人工智能的增长以及电动汽车等产品日益普及的推动下，市场在2023年至2027年期间将以7.6%1的年均增长率增长。 由于半导体市场不断增长且主要客户计划开始运营新工厂，半导体溅射靶材的使用量预计会增加。半导体溅射靶材是公司在PVD 2 中使用的主要产品，用于制造逻辑和存储器等各种半导体器件。此外，随着需要多层化和小型化的先进半导体的发展，PVD 中半导体溅射靶材的使用量预计会增加，CVD 3 和 ALD 4 薄膜形成的需求也会增加。从中长期来看，预计小芯片的市场渗透率将提高，我们预计，在芯片间布线等应用领域，成膜需求将会扩大。
2024 年 5 月 14 日 JX Advanced Metals Corporation
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