超表面是最有希望突破大体积光学元件限制的器件之一。通过提供一种基于亚波长纳米结构中光与物质相互作用的光操控新方法，超表面能够高效操控光的振幅、相位、偏振和频率，并为一系列重要应用带来可能性。然而，实现超器件应用的一个关键挑战是如何制造具有高分辨率的大规模均匀纳米结构。在这篇综述中，我们回顾了与超器件制造兼容的最先进的纳米制造技术。详细介绍了无掩模光刻、掩模光刻和其他纳米制造技术。我们还深入研究了当前制造方法的约束和局限性，同时提供了一些关于如何克服这些挑战的解决方案的见解，以实现先进的纳米光子应用。