Loading...
机构名称:
¥ 1.0

8. Mazur, MM;Pianaro, SA;Portella, KF;Mengarda, P.;Bragança, MDOGP;Ribeiro Junior, S.;Santos de Melo, JS;Cerqueira, DP,使用脉冲直流磁控溅射在陶瓷电绝缘体上沉积并表征 AlN 薄膜。表面与涂层技术 2015,284,247-251。https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2015.06.082。

支持信息 用于纳米图案化的自刷

支持信息 用于纳米图案化的自刷PDF文件第1页

支持信息 用于纳米图案化的自刷PDF文件第2页

支持信息 用于纳米图案化的自刷PDF文件第3页

支持信息 用于纳米图案化的自刷PDF文件第4页

支持信息 用于纳米图案化的自刷PDF文件第5页

相关文件推荐

2024 年
¥2.0
2024 年
¥4.0
2021 年
¥1.0
2017 年
¥1.0
2005 年
¥11.0
2025 年
¥3.0
2025 年
¥1.0
2024 年
¥1.0
2024 年
¥5.0
2024 年
¥1.0