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超低电压触发的硅控制的矩形（...
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在纳米级CMOS过程中，随着特征尺寸的缩小，外在厚度会变细，这将导致Nell和Pwell的较高板电阻。因此，将距离（D1）从N +活性区域增加到NWELL/PWELL中的P +活性区域可以有效地扩大NWELL的电阻（Pwell）。图6显示了具有四个不同

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