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多孔硅重组
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[6] H. Sivaramakrishnan Radhakrishnan、R. Martini、V. Depauw、K. Van Nieuwenhuysen、T. Bearda、I. Gordon、J. Szlufcik 和 J. Poortmans，《使用新型多层多孔硅堆栈实现薄外延硅箔的无切口层转移，分离率接近 100%，少数载流子扩散长度较大》。《太阳能材料与太阳能电池》，（0）。

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