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这些影响是由于单个粒子之间的相互作用(例如重离子)和硅。如果释放的能量(LET,线性能传递)足够高,则可能会破坏CMOS结构(SEL,单个事件闩锁)中的闩锁或可能会损坏栅极(SEGR,单个事件门破裂)。必须在28nm的过程中考虑缓解措施。
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