尽管取得了显着的进展,但关于MHP的光扣材料和设备属性的典型问题尚未得到充分解决。[13]一个重要的问题是这项工作的中心,它是费米水平(E F)位置在MHP的能量差距中的强烈变化,名义上未含量的MHP据报道表现出从N型到P型的行为。[14–20],例如,Schulz等。表明,仅通过将基板从TIO 2变为NiO X,可以将三碘铅中的E F(MAPBI 3)移动多达0.7 eV。[17]在Concontast,Zohar等。发现,基于单乙烯的钙钛矿(例如Mapbbr 3和Cspbbr 3)表现出与底物无关的常数E F位置。[18]此外,OLTHOF报告了MHP E F位置与底物工作功能之间的关系,以表现出相当大的散射,超过1 eV。[21]这种相互矛盾的观察结果已暂时归因于薄膜化学计量,样品制备条件和方法以及样品处理的历史(例如,空气暴露)的差异。[22]例如,已经表明,样本工作功能可以受到化学计量组合的强烈影响。[20,21]此外,根据表面状态的存在,表面带弯曲可以进一步使MHP能级的相互作用与底物的关系复杂化。[23]最后,源自样本制备和/或处理的不同环境条件已显示出不一致的行为。[24–32]因此,急需对钙钛矿/底物界面的能级比对机理进行彻底的和系统研究。
主要关键词