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摘要：制造密集包装的高位（HAR）垂直半导体纳米结构的强大过程非常重要，可用于微电子，储能和转换。制造这些纳米结构的主要挑战之一是模式崩溃，这是毛细管在制造过程中使用的许多基于溶液的过程造成的损害。在这里，使用一系列垂直硅（SI）纳米圆柱作为测试结构，我们证明，通过溶液相沉积方法可以大大降低图案崩溃，以用自组装的单层（SAM）涂上纳米柱。作为模式崩溃的主要原因是纳米圆柱之间的牢固粘附，我们系统地评估了具有不同表面能量成分不同的SAM，并且表面之间识别的H键构成的H键对粘附具有最大的贡献。解决方案相沉积方法的优点是可以在任何干燥步骤之前实现，这会导致模式塌陷。此外，在干燥后，可以在下一个制造步骤之前使用温和的空气治疗轻松去除这些SAM，从而将干净的纳米表面留在后面。因此，我们的方法提供了一种可轻松和有效的方法，以防止微型和纳米制动过程中干燥引起的模式塌陷。关键字：高敏感纳米结构，图案崩溃，毛细管力，硅烷，自组装单层
防止毛细管引起的垂直纳米结构的崩溃
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