机构名称：
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摘要：基于真空的蒸气沉积过程合成胶片和涂料，可以调整微观结构和组成，以获得良好的控制功能和多功能特性，结合了机械，摩擦学，电子化学，光学，光学，光学，电气，电气和其他属性的机械性能，以及其他覆盖的系统效果，以及均匀的覆盖系统。本演讲将描述一种对功能涂层和表面工程的整体方法，该方法依赖于对最终性能的材料，过程和微观结构之间相互作用的深入了解。In the first part, we will provide a brief overview of the advances in film fabrication technologies employing physical vapor deposition (PVD, in particular, magnetron sputtering including HiPIMS, and vacuum arc deposition) and chemical vapor deposition (CVD, in particular, plasma enhanced CVD (PECVD), and atomic layer deposition (ALD)), with a particular emphasis on the understanding of能量表面相互作用，用于控制纳米级涂层微结构的演变。在第二部分中，我们将通过特定的例子和案例研究来说明在航空航天和外层空间应用开发实用涂料方面的挑战，进度和新机会，并考虑了飞机和卫星的不同组成部分。选定的示例将包括：
Nelso Antolotti，Michael K. A. Khor和Daniel Sordelet
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