机构名称：
¥ 1.0
金属有机框架是一类多孔材料，在微电子领域显示出有希望的特性。为了达到这些材料的工业用途，通常首选气相技术，并最近引入。但是，所达到的厚度是不够的，限制了进一步的发展。在这项工作中，描述了允许使用环状配体/水暴露的数百个NM形成数百个NM的改进的气相过程。然后，通过深入的表面分析和分子动力学模拟的组合，建立了羟基缺陷在ZIF-8层中的存在和作用，以达到这种厚度。同时，这项研究揭示了该方法的固有限制：厚度生长是结合的，缺陷在晶体成熟时修复；这种缺陷修复最终导致孔窗窗口的下降下方的孔窗口的扩散半径下降，因此显然可以通过这种生长方法来限制这类材料拓扑的最大MOF厚度。
骨骼肌离子通道病的靶向疗法
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