如果没有汽车、智能手机、电脑等各种产品中所包含的半导体，我们的日常生活就无法实现。另一方面，随着电动汽车（EV）的普及，未来用电量肯定会持续增加。我们需要的是高效利用电力。其中的关键是功率器件（功率半导体）。近年来，作为实现高效利用电力的下一代功率器件材料，碳化硅（SiC）备受关注。住友电工集团旗下的日新离子设备株式会社从 1970 年代开始推动半导体制造工序中不可或缺的离子注入技术的开发，并向市场推出了一流的设备。随着SiC功率器件受到关注，该公司开发了符合社会和市场需求的新型离子注入机，并获得了多方好评。但是，用于SiC功率器件制造的离子注入技术尚未成熟。正在进行产品开发，以实现进一步的发展。通过广泛使用SiC功率器件减少温室气体排放将极大地帮助实现碳中和社会。本期介绍业界第一台专为SiC功率器件设计的离子注入机的开发历史和创新性。