机构名称：
¥ 1.0
摘要：块共聚物的定向自组装（DSA）是用于构图sub-10 nm特征的最有希望的图案技术之一。但是，在如此小的特征大小上，为DSA过程制造指导模式变得越来越困难，并且有必要探索DSA的替代指导方法，以实现长期有序的对齐方式。在这里，我们报告了三封闭共聚物的自我对准组装，聚（2-乙烯基吡啶）-b-丙烯 - b-polystyrene- b-poly（2-乙烯基吡啶）（p2vp- b -PS-b -ps- b -p2vp）在中性石墨烯纳米骨上的含量为p2v的中性石墨烯含量（p2vp- b -ps- b -p2vp）通过溶剂蒸气退火。组装的P2VP-B-PS-B-P2VP在石墨烯基板上表现出远距离的一维对准，沿垂直于石墨烯和基板边界的方向，其半迹尺寸为8 nm，这极大地阐明了传统化学化学上的化学上层状dsa所需的光刻分辨率。用石墨烯条纹之间的差距从10到100 nm不等，可以证明一个宽的处理窗口，从而克服了对指导模式宽度的限制，以具有相应的域间距。将间隙降低到10 nm时，P2VP-B -PS-B -P2VP在石墨烯和底物上形成了直线模式。蒙特卡洛模拟表明，在石墨烯纳米容器上的三嵌段共聚物的自我对准组件分别在石墨烯和SIO 2上的平行和垂直层片的边界上进行引导。模拟还表明，系统的肿胀允许链条快速重新排列，并快速退火任何未对准的晶粒和缺陷。在模拟中系统地研究了SIO 2和P2VP之间的相互作用强度对自组装的影响。关键字：石墨烯，三嵌段共聚物，溶剂蒸气退火，一维组装
poly（2-乙烯基吡啶）的自我对准组装
主要关键词
相关文件推荐
