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OCD方法是快速，无损，在线能力，对大多数相关的结构参数非常敏感，并具有高3D功能。它们被广泛用于过程开发和控制以及在线计量学中。他们还提供高统计相关性，适合同时进行多参数测量。但是，OCD方法的主要挑战是潜在的参数互相关和基于模型的分析中固有的歧义。必须解决更多的结构参数和更复杂的几何形状，这些问题将变得更加重要。当前的OCD方法还面临着敏感性的问题，这是由于相对于不断收缩的结构所使用的辐射的较大波长。此外，存在依赖性材料参数（介电函数）的问题，例如通过量子限制。因此，OCD迫切需要新颖或基本增强的计量学，无论是基于图像的局部探测，都具有增强的分辨率，以及具有增强的灵敏度和性能的快速集合探测。
标题：未来半导体的基于光子的计量学...
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