X射线Ptychography的未来（一种连贯的衍射成像方法）有望实现的分辨率和实验效率，同时探测了越来越复杂的样品的特征。这是通过复杂的成像方法启用的，结合了高度优化的硬件，软件和过程。在本文中，解决了X射线ptychography实验的几个方面，强调了通过使用多个光束实现的增强的多功能性和有效性。从对纳米化的全面理解开始，讨论了聚焦X射线光学的生产。具体而言，开发了直接作品的岩性过程，并描述了其细节，特别强调了在50 kV加速度电压下在化学上半弹性抗性的情况下进行电子束光刻。此过程既多功能又精确，最终促进了菲涅尔区板（FZP）的制造。因此，论文报告了几个并联的几个FZP的应用，用于生成多个X射线梁以执行Ptychography。特别是研究了对标准Ptychographic方法的新型扩展。对多光束X射线PTYChography的研究始于紧密间隔的FZP，以线性阵列排列在同一芯片上，模拟和推进了先前关于该主题的研究，并证明了自制硬件的准备就绪，以实现更复杂的实现。最值得注意的是，FZP彼此之间的接近48 µm，并且最多可以使用三个梁，从而将视场（FOV）扩展了三倍。接下来，引入了一种新颖的设置，在多光束X射线ptychography的背景下促进了适应性的概念，这要归功于堆叠和机动的FZP。在测量之间将焦点光学元件移动的可能性赋予上述设置前所未有的多功能性。对于实验，样本更改或检测条件的每个新迭代，光学元件不必重新设计。足以使用各自的电机并将设置适应新的测量值。金纳米晶簇用各种梁的间距成像，从而在样品上同样间隔区域进行成像，并将FOV扩展到两个倍。这种设置的成功导致其在更复杂的测量中实现，最终导致表现出同时的多光束和多块Ptychography，这两个从未被放在一起。两层样品，与单光束Ptychographichographic测量值相比，层到层的分离范围从1400 µm降至100 µm，分辨率没有损害。最后，FZP的聚焦作用与策划