Loading...
机构名称:
¥ 1.0

硅发光复合缺陷已被认为是基于在电信波长下工作的自旋和光子自由度的量子技术的潜在平台。它们在复杂设备中的集成仍处于起步阶段,并且主要集中在光萃取和指导上。在这里,通过应变工程来解决与碳相关杂质的电子状态(G-Centers)的控制。通过将它们嵌入绝缘体上的硅斑块中,并以罪恶将它们嵌入[001]和[110]方向上,并显示出对零声子线(ZPL)的受控分裂,这是由压电镜理论框架所解释的。分裂可以大至18 MeV,并且通过选择贴片大小或在贴片上的不同位置移动来调整它。一些分裂的,紧张的ZPL几乎完全极化,相对于平流区域,它们的总体强度可提高7倍,而它们的重组动力学略有影响,因为缺乏purcell效应。该技术可以扩展到其他杂质和基于SI的设备,例如悬浮桥,光子晶体微腔,MIE谐振器和集成的光子电路。

基于硅的量子发射器的电子状态的应变工程

基于硅的量子发射器的电子状态的应变工程PDF文件第1页

基于硅的量子发射器的电子状态的应变工程PDF文件第2页

基于硅的量子发射器的电子状态的应变工程PDF文件第3页

基于硅的量子发射器的电子状态的应变工程PDF文件第4页

基于硅的量子发射器的电子状态的应变工程PDF文件第5页