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摘要 现代量子设备在通信、计量或显微镜领域的性能依赖于量子-经典相互作用，这种相互作用通常用退相干理论来描述。尽管长相干时间在量子电子学中具有很高的相关性，但由库仑力介导的退相干机制尚不清楚，而且存在几种相互竞争的理论模型。在这里，我们介绍了一项实验研究，研究了双棱镜电子干涉仪中靠近半导体和金属表面的叠加态自由电子的库仑诱导退相干。退相干是通过不同光束路径分离、表面距离和电导率下的对比度损失来确定的。为了阐明当前的文献讨论，将四种理论模型与我们的数据进行了比较。我们可以排除其中三种，并与基于宏观量子电动力学的理论很好地一致。结果将有助于在设计新型量子仪器时确定和最小化特定的退相干通道。
库仑相互作用导致的量子退相干
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