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摘要：聚对二甲苯 (PC) 因其高机械强度和生物相容性等优异性能在过去几年中引起了极大的关注。当用作柔性基板并与高κ电介质如氧化铝 (Al 2 O 3 ) 结合时，Al 2 O 3 /PC 堆栈在生物医学微系统和微电子等领域的各种应用中变得非常引人注目。对于后者，尤其需要氧化物的原子层沉积，因为它可以沉积高质量和纳米级氧化物厚度。在本文中，实现了在 15 μ m 厚的 PC 层上进行 Al 2 O 3 的原子层沉积 (ALD) 和电子束物理气相沉积 (EBPVD)，并通过 X 射线光电子能谱结合原子力显微镜研究它们对 Al 2 O 3 /PC 所得堆栈的影响。我们发现，基于 ALD 的 Al 2 O 3 /PC 叠层可产生纳米柱状表面，而基于 EBPVD 的 Al 2 O 3 /PC 叠层可产生预期的光滑表面。在这两种情况下，Al 2 O 3 /PC 叠层都可以轻松地从可重复使用的 SiO 2 基板上剥离，从而产生柔性 Al 2 O 3 /PC 薄膜。这些制造工艺经济、产量高，适合大规模生产。尽管 ALD 在半导体行业特别受欢迎，但我们发现 EBPVD 更适合实现用于微电子和纳米电子的 Al 2 O 3 /PC 柔性基板。
Al2O3 沉积方法对 Parylene C 的影响
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