Loading...
机构名称:
¥ 1.0

摘要—本文报告了一项综合研究,该研究优化了使用镍、钛和钼接触金属制成的 3.3 kV 结势垒肖特基 (JBS) 二极管的 OFF 和 ON 状态特性。在此设计中,使用与优化终端区域相同的植入物来形成 JBS 有源区域中的 P 区。P 区的宽度和间距各不相同,以优化器件的 ON 和 OFF 状态。所有测试的二极管均显示出高阻断电压和理想的开启特性,最高额定电流为 2 A。然而,发现漏电流和肖特基势垒高度 (SBH) 与肖特基与 p + 区域的比例成比例。没有 p + 区域的全肖特基和具有非常宽肖特基区域的肖特基具有最低的 SBH(Ni 为 1.61 eV、Mo 为 1.11 eV、Ti 为 0.87 eV)和最高的漏电流。肖特基开口最小(2μm)的二极管具有最低的关断状态漏电,但它们受到周围 p + 区域的严重挤压,从而增加了 SBH。性能最佳的 JBS 二极管是间距最窄的 Ni 和 Mo 器件,p + 植入物/肖特基区域均为 2μm 宽。这些器件提供了最佳的平衡器件设计,具有出色的关断状态性能,而肖特基比保证了相对较低的正向压降。

3.3 kV 4H-SiC JBS 二极管的优化 - WRAP:Warwick

3.3 kV 4H-SiC JBS 二极管的优化 - WRAP:WarwickPDF文件第1页

3.3 kV 4H-SiC JBS 二极管的优化 - WRAP:WarwickPDF文件第2页

3.3 kV 4H-SiC JBS 二极管的优化 - WRAP:WarwickPDF文件第3页

3.3 kV 4H-SiC JBS 二极管的优化 - WRAP:WarwickPDF文件第4页

3.3 kV 4H-SiC JBS 二极管的优化 - WRAP:WarwickPDF文件第5页