栅极金属氧化物半导体异质结构场效应晶体管 (DG MOS-HFET)”,超晶格和微结构 - ELSEVIER Publishers,第 55 卷,第 8-15 页,2013 年。ISSN:0749-6036,DOI:10.1016/j.spmi.2012.12.002(SCI 影响因子 2.12)3. Sudhansu Kumar Pati、KalyanKoley、ArkaDutta、N. Mohankumar 和 Chandan Kumar Sarkar,“一种提取具有 NQS 效应的非对称 DG MOSFET 的 RF 参数的新方法”,半导体杂志- IOP Publishers,第 55 卷34,第 2 期,第 1-5 页,2013 年 11 月。ISSN:1674-4926,DOI:10.1088/1674-4926/34/11/114002(SCI - 影响因子 1.18)4. Sudhansu Kumar Pati、KalyanKoley、ArkaDutta、N. Mohankumar 和 Chandan Kumar Sarkar,“体和氧化物厚度变化对下重叠 DG- MOSFET 模拟和 RF 性能的影响研究”,Microelectronics Reliability-Elsevier Publishers,Vol. 54,第 6-7 期,第 1137-1142 页,2014 年。ISSN:0026-2714,DOI:10.1016/j.microrel.2014.02.008 5. HemantPardeshi、Sudhansu Kumar Pati、Godwin Raj、N. Mohankumar 和 Chandan Kumar Sarkar,“欠重叠和栅极长度对 AlInN/GaN 欠重叠 MOSFET 器件性能的影响”,半导体杂志,IOP Science publishers,第 54 卷。 33, No. 12, 2012 年,第 1-7 页。ISSN:1674-4926,DOI:10.1088/1674- 4926/33/12/124001(SCI-影响因子 1.18) 6. HemantPardeshi、Sudhansu Kumar Pati、Godwin Raj、N. Mohankumar 和 Chandan Kumar Sarkar,“研究 III-V 异质结构欠重叠 DG MOSFET 中栅极错位、栅极偏置和欠重叠长度导致的不对称效应”,Physica E:低维系统和纳米结构,Elsevier,Vol. 46,第 61-67 页,2012 年。ISSN:1386-9477,DOI:10.1016/j.physe.2012.09.011(SCI 影响因子 3.57) 7. HemantPardeshi、Godwin Raj、Sudhansu Kumar Pati、N. Mohankumar 和 Chandan Kumar Sarkar,“III-V 异质结构与硅底搭接双栅极 MOSFET 的比较评估”,半导体,Springer,第 46 卷。 46,第 10 期,2012 年,第 1299–1303 页。ISSN:1090-6479,DOI:10.1134/S1063782612100119(SCI - 影响因子 0.641) 8. Godwin Raj、HemantPardeshi、Sudhansu Kumar Pati、N. Mohankumar 和 Chandan Kumar Sarkar,“基于物理的 AlGaN/GaN HEMT 器件电荷和漏极电流模型”,Journal of Electron Devices,Vol. 14,第 1155-1160 页,2012 年。ISSN:1682-3427 9. Godwin Raj、HemantPardeshi、Sudhansu Kumar Pati、N. Mohankumar 和 Chandan Kumar Sarkar,“基于极化的电荷密度漏极电流和纳米级 AlInGaN/AlN/GaN HEMT 器件的小信号模型”,超晶格和微结构,Elsevier,Vol. 54,第 188-203 页,2013 年。ISSN:0749-6036,DOI:10.1016/j.spmi.2012.11.020(SCI 影响因子 2.12) 10. HemantPardeshi、Godwin Raj、Sudhansu Kumar Pati、N. Mohankumar 和 Chandan Kumar Sarkar,“势垒厚度对 AlInN/GaN 下重叠 DG MOSFET 器件性能的影响”,超晶格与微结构,Elsevier,第 60 卷,第 47-59 页,2013 年。ISSN:0749-6036,DOI:10.1016/j.spmi.2013.04.015(SCI 影响因子 2.12)
主要关键词